Ташкент: Фан, 1987. — 56 с. В монографии представлены результаты решения задач по теории явлений массопереноса, протекающих при жидкофазной эпитаксии слоев полупроводниковых материалов. Часть задач впервые решена применительно к эпитаксии способом принудительного охлаждения раствора-расплава, ограниченного двумя горизонтально расположенными подложками. Полученные данные использованы для управления толщиной, структурными и другими свойствами слоев на примере соединения типа А3В5.Для научных работ...
Ташкент: Фан, 1987. — 56 с. В монографии представлены результаты решения задач по теории явлений массопереноса, протекающих при жидкофазной эпитаксии слоев полупроводниковых материалов. Часть задач впервые решена применительно к эпитаксии способом принудительного охлаждения раствора-расплава, ограниченного двумя горизонтально расположенными подложками. Полученные данные использованы для управления толщиной, структурными и другими свойствами слоев на примере соединения типа А3В5.Для научных работников, аспирантов, преподавателей и студентов. Книга «Исследование по теории процессов управления свойствами кристаллов и слоев» авторов В. Н. Романенко, Дранчук С.Н., Мокрицкий В.А., Каримов Р.Х., Умурзаков Т.П. оценена посетителями КнигоГид, и её читательский рейтинг составил 0.00 из 10.
Для бесплатного просмотра предоставляются: аннотация, публикация, отзывы, а также файлы для скачивания.
Рецензии на книгу
Написано 0 рецензий