Читать онлайн «Технология и оборудование вакуумного напыления.»

Mt И* Никитин Технология и оборудование вакуумного напыления МОСКВА "МЕТАЛЛУРГИЯ" 1992 УЖ 669. 621. 793 Никитин М. М . Технологияноборудование вакуумногонадьшеаия. — М. : Металлур¬ гия, 1992. 112 с. Изложены физические процессы и техника создания атомарных потоков вещества при вакуумном напылении. Рассмотрены взаимодействие потоков пара с поверхностью твер­ дых тел, зарождение и рост покрытий. Показано влияние основных технологических пара­ метров на их структуру и свойства. Описано получение покрытий различного функцио­ нального назначения. Приведены схемы установок и их характеристики. Для инженерно-технических работников, занимающихся вопросами создания на поверхности слоев со специальными свойствами. Ил. 47. Табл. 6. Библиогр. список: 65 назв. 2608000000-065 Н 040{01)-92 124-92 ISBN 5-229-00788-5 © М. М. Никитин, издательство "Металлургия", 1992 ОГЛАВЛЕНИЕ Предисловие 4 Глава 1. Технологические параметры и условия напыления покрытий в вакууме . . 5 1. Схема вакуумного напыления. Краткая характеристика процесса... . ' 5 2. Методы получения атомарных потоков вещества в вакууме - испарение и распыление б 3. Реактивное напыление и энергетическое состояние осаждаемых атомов 12 4. Кинетика и термодинамика образования конденсированной фазы на под­ ложке 15 5. Формирование покрытий 22 6. Тепловые процессы на подложке 24 Глава 2. Электрический разряд . • 32 1. Ионизация газов и эмиссия заряженных частиц 32 2. Условия возникновения разряда в газах 33 3. Тлеющий разряд 34 4. Искровой и коронный разряды 35 5. Дуговой разряд. Вакуумная дуга 36 Глава 3. Способы получения атомарных потоков вещества в вакууме ^7 1. Способы термического вакуумного напыления 37 2. Способы активации испаряемых потоков вещества с помощью электрического разряда 43 3. Способы испарения материалов в вакууме с помощью электрического разряда 48 4. Ионное распыление 52 Глава 4. Технологические процессы формирования покрытий в вакууме 58 1. Предварительная вневакуумная подготовка деталей перед напылением 59 2. Очистка подложек с помощью низкотемпературной плазмы (НТП) 62 3. Технологические процессы получения тонких пленок и покрытий различного функционального назначения 69 Глава 5. Промыт ленное оборудование 86 Библиографический список 109 3 ПРЕДИСЛОВИЕ Развитие техники требует внедрения в промышленность эффектив­ ных технологических процессов, обеспечивающих повышение надеж­ ности и работоспособности элементов и узлов конструкций и машин. Методы вакуумного напыления относятся к наиболее прогрессивным, с помощью которых можно напылять сверхпроводящие и терморегули- рующие, износостойкие и антифрикционные, декоративные и жаро­ стойкие и другие тонкие пленки и покрытия. Возможность на атомар­ ном уровне воздействовать на процесс формирования конденсата и, следовательно, его структуру позволяет получать покрытия и слоис­ тые композиции с уникальными свойствами. В книге изложены теоретические основы вакуумного напыления. С помощью разработанной схемы, включающей расчет тепловых про­ цессов и термодинамический анализ зарождения и роста конденсиро­ ванной фазы, автор определяет оптимальные в данных условиях режимы и показывает, таким образом, пути получения покрытий с требуемыми свойствами.