МИНИСТЕРСТВО ОБРАЗОВАНИЯ И НАУКИ
РОССИЙСКОЙ ФЕДЕРАЦИИ
НАЦИОНАЛЬНЫЙ ИССЛЕДОВАТЕЛЬСКИЙ ЯДЕРНЫЙ
УНИВЕРСИТЕТ «МИФИ»
А. П. Менушенков, В. Н. Неволин, В. Н. Петровский
Физические основы лазерной технологии
Рекомендовано УМО «Ядерные физика и технологии»
в качестве учебного пособия
для студентов высших учебных заведений
Москва 2010
УДК 621. 373. 826(075)
ББК 32. 86-5я7
М 50
Менушенков А. П. , Неволин В. Н. , Петровский В. Н. Физиче-
ские основы лазерной технологии. Учебное пособие. — М. : НИЯУ
МИФИ, 2010. 212 с. Целью настоящего учебного пособия является систематизация накоплен-
ных за годы развития лазерной технологии знаний и восполнение пробелов
учебной литературы по современным проблемам технологических применений
лазеров. В книге подробно рассматриваются физические механизмы взаимо-
действия лазерного излучения с металлами, полупроводниками и другими
непрозрачными средами, принципы устройства лазерных технологических
установок, методы фокусировки мощного лазерного излучения, особенно-
сти тех или иных лазерных технологических процессов, включая физику
резонансного воздействия лазерного излучения на вещество. Учебное пособие рекомендуется студентам старших курсов и аспирантам,
специализирующимся в области лазерной физики, физики конденсированного
состояния, физики наноструктур и взаимодействия лазерного излучения с
веществом. Подготовлено в рамках Программы создания и развития НИЯУ МИФИ. Рецензент д-р физ. -мат. наук, проф. В. А. Рыков
ISBN 978-5-7262-1252-4 c Национальный исследовательский
ядерный университет «МИФИ», 2010
Оглавление
Введение 7
1 Взаимодействие лазерного излучения с веществом 11
1. 1 Классификация лазерных
технологических процессов . . . . . . . . . . . . . . . 12
1. 2 Основные характеристики лазерного
излучения . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 20
1. 3 Процессы передачи энергии лазерного
излучения металлам . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 25
1. 4 Механизмы поглощения лазерного
излучения полупроводниками и
диэлектриками . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 31
1. 5 Оптические свойства металлов . . . . . . . . . . . . 37
1. 6 Пространственно-временные характеристики лазер-
ного излучения
как источника тепла . . . . . . . . . . . . . . . . . . 41
1. 7 Процессы нагрева материалов при
воздействии лазерного излучения . . . . . . . . . . . 47
1. 8 Нелинейные случаи нагрева материала лазерным
излучением . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 55
3
1. 9 Плавление и испарение материала
под действием импульсов лазерного
излучения . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 61
1. 10 Физические свойства лазерной плазмы . . . . . . . . 68
2 Лазерные технологические системы 79
2. 1 Структурная схема лазерных
технологических установок . . . . . . . . . . . . . . . 79
2. 2 Энергетические оптические системы
ЛТУ . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 82
2. 2. 1 Принципы фокусировки мощного лазерного
излучения . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 83
2. 2. 2 Принципы компоновки энергетических
оптических систем . . . . . . . . . . . . . . . . 86
2. 2. 3 Проекционные лазерные системы . . . . . . . 88
2. 2. 4 Линзовые абберации . . . . . . . . . . . . . . 90
2. 2. 5 Оптические материалы . . . . . . . . . . . . . 92
2. 3 Лазерные технологические установки
на основе твердотельных лазеров . . . . . . . . . . . 94
2. 3. 1 Сравнительные характеристики активных
сред твердотельных лазеров . . . . . . . . . . 94
2. 3. 2 Рубиновый лазер . . . . . . . . . . . . . . . . 94
2. 3. 3 Твердотельные Nd:YAG-лазеры с ламповой
накачкой . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 107
2. 3. 4 Твердотельные лазеры с диодной накачкой . 108
2. 3. 5 Волоконные лазеры . . . . . . . . . . . . . . . 108
2. 4 Лазерные технологические установки
на основе CO2 -лазеров . . . . . . . . . . . . . . . . . 111
2. 4. 1 Основные параметры и классификация
CO2 - лазеров . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 111
2. 4. 2 Коэффициент полезного действия
СО2 -лазеров . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 113
2. 4. 3 Классификация мощных СО2 -лазеров . . . . 113
4
2. 4. 4 Непрерывные СО2 -лазеры с диффузионным
охлаждением . .
. . . . . . . . . . . . . . . . . 114
2. 4. 5 Непрерывные СО2 -лазеры с продольной
прокачкой . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 116
2. 4. 6 Непрерывные СО2 -лазеры с поперечной
прокачкой (ТЕ-лазеры) . . . . . . . . . . . . . 116
2. 4. 7 СО2 -лазеры атмосферного давления с
поперечным возбуждением (TEA-лазеры) . . 118
2. 4. 8 Мощные СО2 -лазеры с несамостоятельным
разрядом . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 119
3 Лазерная технология полупроводников 121
3. 1 Классификация лазерных
технологических процессов в
микроэлектронике . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 121
3. 2 Подготовительные операции . . . . . . . . . . . . . . 123
3. 2. 1 Очистка поверхности . . . . . . . . . . . . . . 123
3. 2. 2 Геттерирование . . . . . . . . . . . . . . . . . 129
3. 3 Основные операции . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 132
3. 3. 1 Окисление . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 132
3. 3. 2 Лазерный отжиг полупроводников после
ионной имплантации . . . . . . . . . . . . . . 134
3. 3. 3 Лазерное легирование . . . . . . . . . . . . . . 143
3. 3. 4 Создание силицидов . . . . . . . . . . . . . . . 154
3. 3. 5 Осаждение тонких пленок . . . . . . . . . . . 160
3. 3. 6 Лазерное напыление тонких ВТСП- пленок . 173
3. 4 Завершающие операции . . . . . . . . . . . . . . . . . 177
3. 4. 1 Лазерное скрайбирование . . . . . . . . . . . 177
3. 4. 2 Маркировка . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 179
3. 5 Применение лазеров в создании
электронных приборов . . . . . . . . . . . . . . . . . 180
3. 5. 1 Пайка и контроль качества соединений . . . 180
5
4 Лазерная химия 182
4. 1 Лазерная химия . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 182
4. 2 Лазерное разделение изотопов . . . . . . . . . . . . . 183
4. 2. 1 Схемы лазерного разделения изотопов . . . . 184
4. 2. 2 Коэффициент обогащения . . . . . . . . . . . 186
4. 2. 3 Инициируемые лазером реакции . . . . . . . 187
4. 2. 4 Однофотонная предиссоциация . . . . . . . . 190
4. 2. 5 Двухфотонная диссоциация . . . . . . . . . . 192
4. 2. 6 Фотоизомеризация . . . . . . . . . . . . . . . 194
4. 2. 7 Двухступенчатая фотоионизация . . . . . . . 196
4. 2. 8 Оптическое отклонение атомного пучка . . . 199
4. 2. 9 Многофотонная диссоциация . . . . . . . . . 200
4. 3 Лазерное разделение изотопов в
атомной энергетике . . . . . . . . . . . . . . . . . . . 204
4. 4 Получение особо чистых веществ . . . . . . . . . . . 208
6
ВВЕДЕНИЕ
Лазерная технология наряду с информационными и нанотехно-
логиями уверенно выдвинулась в число наиболее перспективных
высоких технологий — технологий 21 века.