Читать онлайн «Лазерные технологии в электронном машиностроении»

Московский государственный технический университет имени Н. Э. Баумана И. Е. Малов, И. Н. Шиганов ЛАЗЕРНЫЕ ТЕХНОЛОГИИ В ЭЛЕКТРОННОМ МАШИНОСТРОЕНИИ Рекомендовано редсоветом МГТУ им. Н. Э. Баумана в качестве учебного пособия Москва Издательство МГТУ им. Н. Э. Баумана 2008 УДК 621. 375. 826(075. 8) ББК 32. 86 М197 Рецензенты: В. К. Драгунов, Ю. В. Панфилов Малов И. Е. , Шиганов И. Н. М197 Лазерные технологии в электронном машиностроении: Учеб. пособие. — М. : Изд-во МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2008. — 24 с. : ил. Дано общее представление о процессах лазерной обработки по- лупроводников с целью рекристаллизации и отжига, описаны лазер- ные технологии модифицирования и изменения химического состава поверхностных слоев, напыления и осаждения тонких пленок, про- цессы лазерного легирования поверхности полупроводников. Также в пособии рассмотрены физико-химические и технологические процес- сы лазерной обработки пленок и деталей микроэлектроники, дана классификация методов лазерной обработки, рассмотрены методы подгонки параметров элементов микроэлектроники, размерной обра- ботки и маркировки тонких пленок. Для студентов 6-го курса, изучающих дисциплину «Лазерная микротехнология». УДК 621. 375. 826(075. 8) ББК 32. 86 © МГТУ им. Н. Э. Баумана, 2008  ВВЕДЕНИЕ Лазерными микротехнологиями принято называть лазерные технологии обработки материалов, в которых физико-химические процессы, вызванные в материале воздействием лазерного излуче- ния, локализованы в области, не превосходящей несколько десят- ков микрон. В настоящее время данные технологии находят достаточно широкое применение в промышленности. Наиболее востребован- ными среди лазерных микротехнологий являются: 1) лазерная обработка полупроводников; 2) модифицирование и изменение химического состава по- верхностных слоев; 3) микропроцессы обработки с испарением обрабатываемого материала [1]. В данном пособии отражены современные представления о по- строении технологических процессов в электронной промышлен- ности. 1. ЛАЗЕРНЫЙ ОТЖИГ ИМПЛАНТИРОВАННЫХ СЛОЕВ Многие замечательные достижения последних лет в области полупроводниковой электроники, в частности, улучшение харак- теристик приборов, уменьшение их размеров, увеличение выхода годных изделий, связаны с применением технологии ионной им- плантации. Метод ионной имплантации состоит в легировании полупроводника необходимым элементом, которое осуществляет- ся облучением поверхности полупроводника потоком данного эле- мента при ускоряющем напряжении в несколько киловольт. Эта 3 технология уникальна: позволяет внедрять ионы, которые нельзя внедрить обычными методами.