Министерство образования Республики Беларусь
Учреждение образования
«Белорусский государственный университет
информатики и радиоэлектроники»
Кафедра микро-и наноэлектроники
А. Г. Черных, С. В. Ригольд
Р
УИ
БГ
ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ МАРШРУТЫ ИЗГОТОВЛЕНИЯ ИС
Лабораторный практикум
по курсам
а
«Маршрутная технология интегральных схем»
и «Технологические процессы микроэлектроники»
ек
для студентов специальностей
I-41 01 02 «Микро- и наноэлектронные технологии и системы»
и I-41 01 03 «Квантовые информационные системы»
т
всех форм обучения
ио
бл
Би
Минск 2006
УДК 621. 382. 8 (075. 8)
ББК 32. 844. 1 я 73
Ч 49
Ре ц е н з е н т :
доц. кафедры ЭТТ БГУИР, канд. техн. наук В. Л. Ланин
Р
УИ
БГ
а
Черных А. Г. ек
Ч 49 Технологические маршруты изготовления ИС: Лаб. практикум по
курсам «Маршрутная технология интегральных схем» и «Технологиче-
ские процессы микроэлектроники» для студ. спец. I-41 01 02 «Микро- и
т
наноэлектронные технологии и системы» и I-41 01 03 «Квантовые ин-
формационные системы» всех форм обуч. / А. Г. Черных, С. В. Ригольд. –
Мн. : БГУИР, 2006. – 35 с. : ил. ио
ISBN 985-488-016-8
Лабораторный практикум позволяет получить представления о технологии изготовления би-
бл
полярных ИС на ТТЛШ-элементах, КМОП ИС, полупроводниковых оперативных запоминающих уст-
ройств (ОЗУ) на n-канальных МОП структурах, СВЧ ИС, БиКМОП ИС, запоминающих элементов
электрически стираемых программируемых постоянных запоминающих устройств (ЭСППЗУ), изучить
технологические маршруты и контрольные операции после различных этапов изготовления ИС, приоб-
рести практические навыки измерений параметров тестовых структур (ТС) и научиться проводить ана-
Би
лиз технологического процесса по результатам измерений тестовых структур (ТС). УДК 621. 382. 8 (075. 8)
ББК 32. 844. 1 я 73
ISBN 985-488-016-8 © Черных А. Г. , Ригольд С. В. , 2006
© БГУИР, 2006
2
СОДЕРЖАНИЕ
1 Цель работы ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... . . 4
2 Последовательность выполнения работ ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... 4
3 Технологические маршруты изготовления ИС ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... . 4
3. 1 Технологический маршрут изготовления ИС на ТТЛШ-элементах…. 4
3. 2 Технологический маршрут изготовления ИС оперативного
запоминающего устройства на n- канальных МОП структурах ... ... ... . 6
3. 3 Технологический маршрут изготовления КМОП ИС ... ... ... ... ... ... ... ... ... 8
3. 4 Технологический маршрут изготовления СВЧ ИС ... ... ... ... ... ... ... ... ... . . 10
3. 5 Технологический маршрут изготовления БиКМОП ИС ... ... ... ... ... ... . . 13
Р
3. 6 Технологический маршрут изготовления запоминающих
элементов ЭСППЗУ ... ... ... ... ... ... ...
... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... 15
УИ
4 Тестовый контроль в технологии ИС ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... . . 17
5 Структура программы на ЭВМ ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... 26
6 Требования техники безопасности при работе с
измерительным комплексом ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... . 31
БГ
7 Контрольные вопросы ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... . . 32
Литература ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... ... 34
а
ек
т
ио
бл
Би
3
1 ЦЕЛЬ РАБОТЫ
Получить представление о технологических процессах изготовления ИС;
изучить технологический маршрут и контрольные операции после различных
этапов изготовления ИС; приобрести практические навыки измерений парамет-
ров ТС и научиться проводить анализ технологического процесса по результа-
там измерений ТС.