Основы технологии
микромонтажа
интегральных схем
Белоус А. И. Емельянов В. А. ми^
А. И. Белоус, В. А. Емельянов
Основы технологии
микромонтажа
интегральных схем
Москва, 2013
УДК 621. 3. 049. 77
ББК 32. 844. 1
Б35
Белоус А. И. , Емельянов В. А. Б35 Основы технологии микромонтажа интегральных схем. - М. :
ДМК Пресс, 2013. -316 с. ISBN 978-5-94074-864-9
Эволюция изделий интегральной микроэлектроники неотделима
от прогресса в области технологии корпусирования интегральных
микросхем, которую еще 10-15 лет тому назад относили к разряду
второстепенных, не требующих проведения широкомасштабных
научных исследований и базирующихся на использовании возможностей
имеющегося парка сборочного оборудования. За этот период решены
многие находившиеся в центре внимания существенные проблемы в
области микроэлектроники. В данный же момент наблюдается резкое
повышение интереса ученых и специалистов серийных производств
к технике корпусирования современных изделий интегральной
микроэлектроники - больших интегральных схем (БИС) и сверхбольших
интегральных микросхем (СБИС), в которой центральное место
занимает микромонтаж кристаллов. В книге обобщены результаты теоретических и экспериментальных
исследований физико-химических свойств тонких пленок,
наносимых на кристаллы, рассмотрены базовые элементы корпусов и
выводных рамок БИС, детально оговорены особенности технологического
процесса микромонтажа кристаллов, описаны состав и особенности
функционирования используемого при микромонтаже
технологического оборудования. Книга написана простым и понятным языком и, несомненно, найдет
признание среди специалистов по микроэлектронике, поскольку
издания по представленному профилю являются достаточно редкими и
весьма востребованными как в отечественной печати, так и за рубежом. УДК 621. 3. 049.
77
ББК 32. 844. 1
Все права защищены. Любая часть этой книги не может быть
воспроизведена в какой бы то ни было форме и какими бы то ни было средствами без
письменного разрешения владельцев авторских прав. Материал, изложенный в данной книге, многократно проверен. Но
поскольку вероятность технических ошибок все равно существует, издательство
не может гарантировать абсолютную точность и правильность приводимых
сведений. В связи с этим издательство не несет ответственности за возможные
ошибки, связанные с использованием книги. © Белоус А. И. , Емельянов В. А. , 2013
ISBN 978-5-94074-864-9 © Оформление, ДМК Пресс, 2013
Введение 6
▼ Глава 1
Особенностии тонкопленочных покрытий
для кристаллов БИС 9
1. 1. Планарные контакты, межэлементные соединения и контактные
площадки на основе алюминия 10
1. 2. Тонкопленочные покрытия на основе благородных металлов,
никеля и бинарных сплавов 25
1. 3. Эксплуатационные характеристики тонкопленочных покрытий
кристаллов БИС 32
1. 3. 1. Коррозионная устойчивость тонкопленочных покрытий
кристаллов 32
1. 3. 2. Процессы электромиграции в слоях металлизации на основе
сплавов алюминия 37
1. 4. Особенности проволочного микромонтажа кристаллов БИС 44
1. 5.